Patentmuster glatt rechts

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  • on July 31, 2020
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Ein Transversalmuster eliminiert die “Oberseite” der Membran, wo alle Nähte zusammenkommen. Es eliminiert auch die herausfordernde Endnaht bei der Herstellung einer Airform. Der Nahtprozess ist genauer, da die Platten weniger kurven. Es verwendet die maximale Breite des Gewebes, und es erfordert weniger Gesamtplatten als das radiale Design. Die Arbeit zur Montage einer Transversalmembran ist halb so viel wie in einem ähnlichen radialen Design. Die meisten Schulen, Tresorräume, Turnhallen und andere architektonische Kuppeln sind auf einer Stammwand gebaut. Der Kuppelteil beträgt in der Regel ein Viertel bis ein Sechstel des Durchmessers des Gebäudes. Das Transversalmuster ist ideal für diese Strukturen. *Die Antragsteller werden auf die Offenlegungsbeispiele auf den Seiten 9-13 verwiesen, um den richtigen Wortlaut und die Anzahl der Abbildungsbeschreibungen zu bestimmen, die ihrer Offenlegung angemessen sind. Fragen zu einer Geschmacksmusterpatentanmeldung und ihren Formen können an den Design Patent Practice Specialist des Technology Center 2900 unter (571) 272-2900 gerichtet werden. Ansichten, die lediglich Duplikate anderer Ansichten des Entwurfs sind oder nur flach sind und keine Zierlichkeit enthalten, können in der Zeichnung weggelassen werden, wenn die Spezifikation dies ausdrücklich klarstellt.

Wenn z. B. die linke und rechte Seite eines Entwurfs identisch oder ein Spiegelbild sind, sollte eine Ansicht von einer Seite und eine Anweisung in der Zeichnungsbeschreibung bereitgestellt werden, dass die andere Seite identisch ist oder ein Spiegelbild. Wenn der Boden des Designs flach ist, kann eine Ansicht der Unterseite weggelassen werden, wenn die Abbildungsbeschreibungen eine Aussage enthalten, dass der Boden flach und unornamentiert ist. Der Begriff “unornamented” sollte nicht verwendet werden, um sichtbare Flächen zu beschreiben, die eine Struktur enthalten, die eindeutig nicht flach ist. In einigen Fällen kann der Anspruch auf einen ganzen Artikel gerichtet werden, aber da alle Seiten des Artikels während des normalen Gebrauchs möglicherweise nicht sichtbar sind, ist es nicht notwendig, sie offenzulegen. Eine Schnittansicht, die Elemente der Konstruktion deutlicher hervorruft, ist zulässig, eine Schnittansicht, die funktionale Merkmale aufweist, oder eine Innenstruktur, die nicht Teil des beanspruchten Geschmacksmusters ist, ist jedoch weder erforderlich noch zulässig. 35 U.S.C. 102 Bedingungen für die Patentierbarkeit; Neuheit und Verlust des Patentrechts Trotz der Notwendigkeit im Rapid Prototyping für eine zweckdienliche und kostengünstige Oberflächenveredelungstechnik ist sich der Anmelder keiner Lehre oder an einem Vorschlag im Stand der Technik bewusst, eine Dampfpoliertechnik für die Glättung von Objekten zu verwenden, die durch geschichtete Herstellungstechniken für Rapid Prototyping gebildet werden. Wie oben erwähnt, wird der Bestrahlungsschritt in einigen Ausführungsformen mit gemusterter Bestrahlung durchgeführt.

Bei der gemusterten Bestrahlung kann es sich um ein festes Muster oder um ein variables Muster handelt, das von einem Mustergenerator (z. B. einer DLP) erstellt wird, wie oben erläutert, je nachdem, welcher Artikel hergestellt wird. Dieser Artikel befasst sich mit dem strategischen Management und der Nutzung von Rechten gegen geistiges Eigentum, um Risiken zu reduzieren, Geschäftspartnerschaften zu entwickeln und die Wettbewerbsfähigkeit aller Arten von Unternehmen in der Modebranche zu verbessern. Wie in Abb. 3 dargestellt, kocht der Verdampfer 30 das Lösungsmittel 34 in eine Dampfzone 36, die am oder über dem Siedepunkt des Lösungsmittels gehalten wird und in den Kühlspulen 33 und 35 enthalten ist. Das Objekt 10 wird in der Dampfzone 36 aufgehängt, gehalten von einem Drahtspieß 32, der gebogen ist, um das Objekt zu passen. Es können auch alternative Haltemittel wie ein Korb, ein Netz oder eine Netzplattform verwendet werden. Die Aufgabe 10 ist dem verdampften Lösungsmittel 34 ausgesetzt, so dass Dämpfe des Lösungsmittels 34 in die Oberflächen 12, 14, 16 und 18 der Objekt 10 eindringen können. Durcheindringen des Lösungsmittels 34 erweicht das Modellierungsmaterial an den Objektoberflächen, so dass das Oberflächenmaterial wieder fließen kann.

Das Nachfließen des Materials glättet die Objektoberflächen. In allen Fällen, in denen der Prüfer erklärt hat, dass eine Antwort auf ein Erfordernis erforderlich ist, oder wenn der Prüfer einen patentierbaren Gegenstand angegeben hat, muss die Antwort den Anforderungen des Prüfers entsprechen oder insbesondere jede Anforderung geltend machen, warum die Einhaltung nicht erforderlich sein sollte.

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